ÃæÀüÇϱâ
Àå¹Ù±¸´Ï
ÀÚ·áÆÇ¸Å
¸¶À̹ڽº
ÅëÇÕ°Ë»ö

HF-CVD¹ý¿¡ ÀÇÇÑ CNTÀÇ ÁõÂø ¹× Ư¼º

ÇѸÎÈù´«µ¿ÀÚ > ¹®¼­¹Ú½º > ±âº» Æú´õ | 2008/05/10 ±¸¸Å(0) ¤Ó Á¶È¸(78)
¹®¼­ ¿ä¾àÁ¤º¸
±¸¸ÅÀÚ Æò°¡
¹®¼­ »ó¼¼Á¤º¸
¼Ò°³±Û 21¼¼±â¿¡ Á¢¾îµé¸é¼­ °ú°Å ¸Þ¸ð¸®, CPU µî Á¤º¸È­ »çȸ¸¦ ´ëÇ¥Çß´ø ¸¶ÀÌÅ©·Î ÀüÀÚ±â¼úÀÇ ±â¼úÀû, °æÁ¦Àû ÇѰ迡 ´ëÇÑ ´ë¾ÈÀ¸·Î½á Àü ¼¼°èÀûÀ¸·Î ³ª³ë±â¼ú(nanotechnology)¿¡ ´ëÇÑ °ü½ÉÀÌ »õ·Î¿î È­µÎ·Î ¶°¿Ã¶ú´Ù.
³ª³ë±â¼úÀ̶õ, ¹°ÁúÀ» ³ª³ë ¼öÁØÀÇ Å©±â¿¡¼­ Á¶Àۺм®Çϰí À̸¦ Á¦¾îÇÏ´Â °úÇбâ¼úÀ» ¶æÇÑ´Ù. ÀÌ´Â ³ª³ë¹ÌÅ͹üÀ§(10-9¢¦10-7m)ÀÇ Å©±âÀÎ ¿øÀÚºÐÀÚ ¼öÁØ¿¡¼­ ¹°ÁúÀÇ Çö»óÀ» ±Ô¸íÇÏ°í »õ·Î¿î Ư¼ºÀ» °®´Â ¼ÒÀç ¹× ¼ÒÀÚ¸¦ âÃâÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô µÈ´Ù´Â Àǹ̰¡ ÀÖ´Ù. ÀÌ·¯ÇÑ ÃʼÒÇüÈ­ °³³äÀ» óÀ½ ³»³õÀº ¹Ì±¹ÀÇ ¸®Ã³µå P.ÆÄÀθ¸ ¹Ú»ç´Â ¡°¿øÀÚ¸¦ ÇϳªÇϳª ¸¶À½´ë·Î ¹è¿­ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù¸é 10°³ ¿øÀÚ ±½±â³ª Å©±âÀÇ Ã¶»ç, ȸ·Î¸¦ ¸¸µé ¼ö Àֱ⠶§¹®¿¡ Á¾·¡¿Í´Â ÀüÇô ´Ù¸¥ »õ·Î¿î Á¦Á¶¹æ¹ýÀÌ »ý°Ü³¯ °Í¡±À̶ó°í ¹ßÇ¥ÇÑ ÀûÀÌ ÀÖ´Ù. ÀÌÈÄ ÁÖ»çÇü °Ëħ Çö¹Ì°æÀ» ÅëÇØ 80³â´ë¿¡ µé¾î¼­¸é¼­ º»°ÝÀûÀÎ ³ª³ë±â¼ú¿¡ ´ëÇÑ ¿¬±¸°¡ ½ÃÀ۵Ǿú´Ù.
¸ñÂ÷ 1. ¼­·Ð1

2. ÀÌ·ÐÀû ¹è°æ3
2-1. ź¼Ò³ª³ëÆ©ºêÀÇ ¹ß°ß3
2-1-1. ź¼Ò³ª³ëÆ©ºêÀÇ Á¤ÀÇ3
2-1-2. CNTÀÇ ±¸Á¶4
2-2. ź¼Ò³ª³ëÆ©ºêÀÇ Æ¯¼º °ú ÀÀ¿ë6
2-2-1. CNTÀÇ Àü±âÀû ¼ºÁú7
2-2-2. CNTÀÇ ¿­Àû ¼ºÁú 7
2-2-3. CNTÀÇ ±â°èÀû ¼ºÁú 8
2-2-4. CNTÀÇ ÀÀ¿ë 9
2-3. ź¼Ò³ª³ëÆ©ºêÀÇ ¼ºÀå12
2-3-1. Tip & Base growth12
2-4. ź¼Ò³ª³ëÆ©ºêÀÇ ÇÕ¼º¹æ¹ý14
2-4-1. ÇöóÁ È­Çбâ»óÁõÂø¹ý(PE-CVD)14
2-4-2. Hot Filament È­Çбâ»óÁõÂø¹ý(HF-CVD)15
2-4-3. ¼ö¼Ò¿øÀÚÀÇ ¿ªÇÒ16
2-5. ½ºÆÛÅ͸µ(Sputtering)17

3. ½ÇÇè ¹æ¹ý ¹× ºÐ¼®18
3-1. Magnetron Sputtering½ÇÇè ÀåÄ¡18
3-2. HF-CVD ½ÇÇèÀåÄ¡20
3-2-1. ½ÇÇè¹æ¹ý20
3-2-2. Substrate bias system25
3-2-3. ÅÖ½ºÅÙ FilamentÀÇ ÅºÈ­25
3-3. ºÐ¼® ÀåÄ¡29
3-3-1. Filament ¹× ±âÆÇÀÇ ¿Âµµ ÃøÁ¤29
3-3-2. SEM ºÐ¼®29

4. °á°ú ¹× °íÂû31
4-1. Si waferÀÇ Àüó¸®31
4-2. ³ª³ë ¹Ì¸³ÀÚ Ã¶Ã˸ŠÇü¼º31
4-3. HF-CVD¹ý¿¡ ÀÇÇÑ CNT ¹Ú¸· Çü¼º33
4-3-1. Filament ¿ÂµµÀÇ ¿µÇâ33
4-3-2. ±âü Á¶¼ººñÀÇ ¿µÇâ35
4-3-3. DC BiasÀÇ ¿µÇâ37

5. °á·Ð38
Âü°í¹®Çå39
º»¹®³»¿ë 2-1-1. ź¼Ò³ª³ëÆ©ºêÀÇ Á¤ÀÇ
ź¼Ò³ª³ëÆ©ºê(Carbon Nanotube; CNT)¶õ Áö±¸»ó¿¡ ´Ù·®À¸·Î Á¸ÀçÇϴ ź¼Ò·Î ÀÌ·ç¾îÁø ź¼Òµ¿¼Òü·Î¼­ ÇϳªÀÇ Åº¼Ò¿øÀÚ°¡ 3°³ÀÇ ´Ù¸¥ ź¼Ò¿øÀÚ¿Í À°°¢Çü ¹úÁý¹«´Ì·Î °áÇÕµÇ¾î Æ©ºêÇüŸ¦ ÀÌ·ç°í ÀÖ´Â ¹°ÁúÀ̸ç, Æ©ºêÀÇ Á÷°æÀÌ ³ª³ë¹ÌÅÍ(nm=10¾ïºÐÀÇ 1¹ÌÅÍ) ¼öÁØÀ¸·Î ±ØÈ÷ ÀÛÀº ¿µ¿ªÀÇ ¹°ÁúÀÌ´Ù.
ÀÌ·¯ÇÑ Åº¼Ò³ª³ëÆ©ºê´Â Æ©ºêÇüÅ·Π¸»·ÁÁø °¢µµ ¶Ç´Â Æ©ºêÀÇ Á÷°æ¿¡ µû¶ó¼­ ±Ý¼Ó°ú °°Àº Àü±âÀû µµÃ¼ Ư¼º ¶Ç´Â ¹ÝµµÃ¼ Ư¼ºÀ» ¼±ÅÃÀûÀ¸·Î °¡Áú ¼ö ÀÖ´Ù. ¶ÇÇÑ ÀÌ·¯ÇÑ Åº¼Ò³ª³ëÆ©ºê´Â ±â°èÀû, Àü±âÀû, È­ÇÐÀû Ư¼ºÀÌ ¿ì¼öÇÏ¿©4-8) Àü°è¹æÃâ¼ÒÀÚ(Field Emission Display), ¼ö¼ÒÀúÀå¿ë±â, 2Â÷ÀüÁöÀÇ Àü±Ø µîÀ¸·Î ´Ù¾çÇÏ°Ô ÀÀ¿ëµÉ ¼ö ÀÖÀ¸¸ç, Å×¶ó±Þ ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ¿¡ ÀÀ¿ëµÉ ¼ö ÀÖ´Â ¹°Áú·Î ÇöÁ¸ÇÏ´Â ¹°Áú Áß °áÇÔÀÌ °ÅÀÇ ¾ø´Â ½Å¼ÒÀç·Î ¾Ë·ÁÁ® ÀÖ´Ù.
°íµµÀÇ ÇÕ¼º±â¼ú¿¡ ÀÇÇØ Á¦Á¶µÇ¸ç, ÇÕ¼º¹æ¹ýÀ¸·Î´Â Àü±â¹æÀü, ¿­ºÐÇØ, ·¹ÀÌÀúÁõÂø, ÇöóÁ È­Çбâ»óÁõÂø, ¿­È­Çбâ»óÁõÂø, Àü±âºÐÇØ, FlameÇÕ¼º¹æ¹ý µîÀÌ ÀÖÀ¸¸ç, ÇöÀç Ç×°ø¿ìÁÖ, »ý¸í°øÇÐ, ȯ°æ¿¡³ÊÁö, Àç·á»ê¾÷, ÀǾàÀÇ·á, ÀüÀÚÄÄÇ»ÅÍ, º¸¾È¾ÈÀü, °úÇб³À° µî °ÅÀÇ ¸ðµç ºÐ¾ß·Î ÀÀ¿ëÀÇ ¹üÀ§°¡ ³ÐÇôÁö°í ÀÖ´Ù.
 
Âü°íÀÚ·á 1. C. J. Lee, J. Park, J. M. Kim, Y. Huh, J. Y. Lee and K. S. No, \\\"Low-temperature Growth of Carbon Nanotubes by Thermal Chemical Vapor Deposition using Pd, Cr and Pt as Co-catalyst,\\\" Chem. Phys. Lett., 327(5-6), 277-283(2000).
2. Korto, H. W., Heath, J. R., O\\`Brien, S. C., Curl, R. F., and Smalley, R. E., 1985, \\\"C60 : Buckminsterfullerene,\\\" Nature, Vol. 318, P. 165.
3. Iijima, S., \\\"Helical Microtubules of Graphite Carbon,\\\" 1991, Nature, Vol. 354, P. 56.
4. T. M. Whiney, J. S. Jiang, P. C. Searson, and C. L. Chien, science 261, 1316(1993).
5. M. S. Dresselhaus, G. Dresselhaus, and P. C. Eklund, Science of Fullerenes and Carbon Nanotubes, (Academic Press Inc., 1996), Chapter 19, and references therein.
6. M. M. J. Treacy, T. W. Ebbensen, and J. M. Gibson, Nature 381, 678(1996).
7. P. Delaney, H. J. Choi, J. Ihm, S. G. Louie, and M. L. Cohen, Nature 391, 466(1998).
8. S. H. Jhi, J. Ihm, S. G. Louie, M. L. Cohen, Nature 399, 132(1999).
9. W. A. de Heer, A. Chatelain, and D. Ugarte, Science 270, 1179(1995).
10. S. J. Tans, R. M. Verschueren, and C. Dekker, Nature 393, 49(1998).
11. C. Liu, Y. Y. Fan, M. Liu, H. T. Cong, H. M. Cheng, and M. S. Dresselhaus, Science 286, 1127(1999).
12. J. Kong, N. R. Franklin, C. Zhou, M. G. Chapline, S. Peng, K. Cho, and H. Dai, Science 287, 622(2000).
13. J. Ihm, H. J. Choi, Nature 391, 466(1998).
14. S. Iijima and T. Ichihashi, Nature 363, 603(1993).
15. D. S. Bethune, C. H. Kiang, M. S. de Vries, G. Gorman, R. Savoy, J. Vazquez, and R. Beyers, Nature 363, 605(1993).
16. C. Journet, W. K. Maser, P. Bernier, A. Loiseau, M. Lamy de la Chapelle, S. Lefrant, P. Deniard, R. Lee, and J. E. Fischer, Nature 388, 756(1997).
17. A. Thess, R. Lee, P. Nikolaev, H. Dai, P. Petit, J. Robert, C. Xu, Y. H. Lee, S. G. Kim, D. T. Colbert, G. Scuseria, D. Tomanek, J. E. Fisher, and R. E. Smalley, Science 273, 483(1996).
18. Kordatos, W. K. Hsu, J. P. Hare, P. D. Townsend, K. Prassides, A. K. Cheetham, H. W. Kroto, and D. R. M. Walton, Nature 388, 52(1997).
19. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, P. N. Provencio, Science 282, 1105(1998).
20. J. Han, W. Yang, J. B. Yoo, and C. Y. Park, J. Appl. Phys. 39, 7363(2000).
21. H. Murakami, M. Hirakawa, C. Tanaka, and H. Yamakawa, Appl. Phys. Lett., 76, 1776(2000).
22. W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qain, B. H. Chang, B. S. Zou, W. Y. Zhou, R. A. Zhao, and G. Wang, Science 274, 1701(1996).
23. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Casell, and H. Dai, Science 283, 512(1999).
24. C. J. Lee, J. H. Park, and J. Park, Chem. Phys. Lett., 323, 556(2000).
25. C. J. Lee, J. H. Park and J. Park Chem. Phys. Lett, 326, 175(2000).
26. C. J. Lee and J. Park, Appl. Phys. Lett., 77, 3397, 21(2000).
27. B. C. Satishkumar, A. Govindaraj, Rhhul Sen, C. N. R. Rao, Chem. Phys. Lett., 293, 47(1998).
28. P. Nikolaev, M J. Bronikowski, R. K. Bradley, F. Rohmnd, D. T. Colbert, K. A. Smith, and R. E. Smalley, Chem. Phys. Lett., 313, 91(1991).
ÁÖ¼®¿©ºÎ ÁÖ¼®¾øÀ½
Çб³Á¤º¸ 2ÁÖ°£ ´Ù¿î¹ÞÀº ÇлýÀÇ Çб³Á¤º¸¸¦ º¸¿©ÁÝ´Ï´Ù.(5P ¼Ò¿ä)
ÀúÀÛ±Ç Á¤º¸ À§ Á¤º¸ ¹× °Ô½Ã¹° ³»¿ëÀÇ Áø½Ç¼º¿¡ ´ëÇÏ¿© ÇØÇÇÄ·ÆÛ½º´Â º¸ÁõÇÏÁö ¾Æ´ÏÇϸç, ÇØ´ç Á¤º¸ ¹× °Ô½Ã¹° ÀúÀ۱ǰú ±âŸ ¹ýÀû Ã¥ÀÓÀº ÀÚ·á µî·ÏÀÚ¿¡°Ô ÀÖ½À´Ï´Ù.
À§ Á¤º¸ ¹× °Ô½Ã¹° ³»¿ëÀÇ ºÒ¹ýÀû ÀÌ¿ë, ¹«´Ü ÀüÀ硤¹èÆ÷´Â ±ÝÁöµÇ¾î ÀÖ½À´Ï´Ù.ÀúÀÛ±ÇÄ§ÇØ, ¸í¿¹ÈÑ¼Õ µî ºÐÀï¿ä¼Ò ¹ß°ß½Ã °í°´¼¾ÅÍÀÇ ÀúÀÛ±ÇÄ§ÇØ ½Å°í¼¾Å͸¦ ÀÌ¿ëÇØ Áֽñ⠹ٶø´Ï´Ù.

±¸¸ÅÆò°¡(
0
)
±¸¸Å¹®ÀÇ(
0
)
Æ®·¢¹é(
0
)